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プラズマ用高周波電源 R/L 01シリーズ

本機は、Mosfetパワートランジスタを使用した高効率でコンパクトなパワーアンプ,MPU(Microprocessor Unit)を使用したコントロール回路とスイッチング電源の採用により多機能で小型・軽量化を実現したプラズマ用高周波電源です。
 
本機は、MPUによりコントロールしており、出力電力・反射電力等全てのパラメータの設定・制御を高精度に行い、けい光表示ディスプレイにデジタル表示します。通常の運転に必要な操作、例えば出力電力,ランピング,パルス,DCバイアスコントロール等の設定は、フロントパネルのキーインで行えます。また、サービスに必要な操作、例えばPA部の電圧・電流・消費電力・温度のモニタ,出力電力の校正等が、サービスカラムにエントリーして行えます。
 
本機は、負荷インピーダンス不整合やアーク発生時に出力電力を制限します。またアンプ電流,Mosfet消費電力によっても出力電力を制限し反射電力から回路を保護します。またヒートシンクの温度センサーにより冷却に関する故障・トラブルから保護します。

Model R601(13.56MHz, 1KW)


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特 長
デュアル・パワー・レンジ:定格出力とその1/10出力をフルスケールに設定し高精度な制御
Forward/Loadパワーコントロール:進行波電力または負荷電力(進行波電力―反射電力)をコントロール
RF/DC Voltageコントロール:印加電極に発生するRF電圧またはDCバイアス電圧をコントロール
自動周波数チューニング:反射電力が最小になるようにコントロール(オプション。ご発注時ご確認下さい。)
Master/Slave(親子)運転:複数同時運転やソース/バイアス運転等のための同期運転
プログラマブル・パルス出力:プログラマブルのため外部パルス発生器は不要。外部パルスも利用可。ON/OFFパルスと2値パルスが利用可。(オプション。ご発注時ご確認下さい。)
通信方式:RS-232/422/485利用可能。(ご発注時ご確認下さい。)
コンプライアンス:CEマーキング(EMC, Safety), FCC regulations(spurious radiated emission), SEMI

社名 :アステック株式会社半導体事業部        URL:http://www.astechcorp.co.jp
本社 :〒169-0075 東京都新宿区高田馬場4-39-7 高田馬場21ビル TEL:03-3367-8921 FAX:03-3367-8996
大阪営業所:〒531-0074 大阪市北区本庄東1-1-10 ライズ88 TEL:06-6375-5852 FAX:06-6375-5845
営業品目:高周波電源、自動整合器、自動位相シフタ、スパッタ用DC電源、スパッタ用DCパルス電源、大気圧放電用電源、アーク・カソード電源、バイアス/クリーニング用電源、光ファイバー式温度計